VENA-300

　VENA系列自動(dòng)匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積，化學(xué)氣象沉積，磁控濺射，以及太陽(yáng)能制造設(shè)備PECVD等設(shè)備當(dāng)中，主要功能是實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)匹配，解決了現(xiàn)在國(guó)內(nèi)真空鍍膜設(shè)備中的一個(gè)技術(shù)空缺；具有自動(dòng)，快速，可靠，高效，準(zhǔn)確，節(jié)省人力和時(shí)間等特點(diǎn)。可選的射頻系統(tǒng)檢測(cè)模塊可實(shí)時(shí)檢測(cè)出系統(tǒng)的正反功率、駐波比、射頻信號(hào)峰值電壓、電流、直流偏置電壓等，從而使您能夠發(fā)現(xiàn)并顯著降低制程變化性。

優(yōu)勢(shì)

●性能安全可靠，長(zhǎng)時(shí)間工作穩(wěn)定
●實(shí)時(shí)反射功率測(cè)量與控制
●優(yōu)化設(shè)計(jì)、安裝、使用與維修十分簡(jiǎn)便
●傳輸效率高，運(yùn)行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒，與其他射頻功率發(fā)生器配合使用

特點(diǎn)

●加強(qiáng)了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優(yōu)化的匹配算法加速匹配時(shí)間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴(yán)格的可靠性測(cè)試

使用參數(shù)：